沿革・技術製品開発の歴史

1975年
  • 設立
  • ROSS CONTROL(アメリカ)の代理店としてプレス用ダブルバルブの販売を開始する。
  

1978年
  • ダブルバルブの再起動防止用リミットセンサE502Xを開発。アメリカ、ドイツの特許を取得する。
 

1980年
  • Palcom 600(Pneumatic Analogue&Logic Computing Relay)を開発。
  • Palcom 600の特性を利用する各種のアプリケーションを発表する。
  • 人工呼吸器用ディマンドバルブ
  • 工作機械用ギャップセンサ
  • 潤滑油モニタ(差圧スイッチ)
  • 空気圧式レベルセンサ&コントローラ
  • 麻酔器用ブレンダ
  • 空気圧伝送器　
  

1985年
  • 高頻度人工呼吸器のPEEP圧(positive end expiratory pressure)制御用電空レギュレータを開発。肺内の目標圧力を制御。
  • 圧力制御範囲：
    -100～2000mmAq(ー0.14～2.8psig)
各種のメディカル用機器

1988年
  • 戦闘機の飛行シミュレーション用連成圧電空レギュレータを開発
  • 出力圧力レンジ：-100～700kPa(ー14.5～100psig)
  

1989年
  • 長期療養用人工呼吸器のディマンド制御用電空レギュレータを開発
  • 肺内圧を直接制御
  • 圧力制御範囲：0～2000mmAq
  • 出力流量：0～150LPM
  • 応答速度：0.02sec
  • 蘇生器用流量バルブを開発
  • 流量制御範囲：0～100LPM
  

1990年
  • 最初の産業用電空レギュレータとしてレーザー加工機のアシストガス制御用電空レギュレータ752EAを開発
  • 圧力制御レンジ：0～1MPa(0～150psig)
  • 接続口径：G3/8
産業用電空レギュレータ

1992年
  • 高圧用電空レギュレータを開発
  • 圧力制御範囲：0～2MPa
  

1993年
  • LCD製造装置に使用する電空レギュレータの出荷を開始
  • 圧力制御レンジ：0～700kPa(0～100psig)
  

1995年
  • 半導体露光装置の水平位置制御用電空レギュレータ(ERG BOX) の出荷を開始
  • 出力圧力レンジ：0～700kPa(0～100psig)
  • 接続口径：G3/8
  • 周波数応答性：10Hz(-3dB)
ERG BOX

1997年
  • 半導体製造ラインの温度制御に使用する高温高圧用サーボバルブ900／910シリーズを開発
  • 使用圧力：1.5MPa
  • 流体温度：150℃
  • 制御分解能：0.05℃(1997年) ／0.005℃(2003年)
904

1998年
  • 純水の流量を制御するHLレギュレータを開発
    最初の液体用量産機種。接液部材質はSUS316およびPTFEを採用。
  • 流量制御範囲：
    0~0.02 LPM(最少レンジ) ／0~40 LPM(最大レンジ)
  • ポリッシャー用電空レギュレータの出荷を開始
  • 圧力制御範囲：
    0～100kPa.(0～15psig)
10%RO入力時の静特性(テストサンプル:640MD2S)
HLレギュレータ
8連モジュール（641MD2）

1999年
  • 空気圧による位置サーボシステムを開発
  • 創造的技術開発助成金を受ける。
  • 位置制御範囲：0～100から最大0～1000mm
  • 供給圧力：500±100kPa
  • 推力：5kg(Φ15)～60kg(Φ50)
  • 位置精度：0.05～1mm
位置サーボシリンダ

2002年
  • CMP装置用の高精度連成型電空レギュレータの出荷を開始
  • 圧力制御範囲：-10～100kPa.(-1.5～15psig)
  
 
10%RO入力時の静特性(テストサンプル:640ECN2)
出力圧力(kPa) = 出力電圧 x 68.8
640ECN外部センサ併用型

2003年
  • ナノシリンダの開発
  • 制御範囲：0～10μ～400μ
  • 分解能：1nm～25nm
ナノシリンダ

2004年
  • 高真空にも対応する連成圧力制御型電空レギュレータを開発
  • 制御圧力範囲：-100～300kPa
  • 接続口径：1/8～1/4
  • CPUによりインテリジェント制御を行なうXシリーズの販売を開始
  • データロギング機能
  • 自動校正機能
  • アラーム機能
  • 制御分解能1/2000以下
  • CEマーク対応(TUV認証)
  

2005年
  • 高圧電空レギュレータのレンジとシリーズを拡張
  • 最高制御圧力：2.5MPa
高圧レギュレータ752XH

2007年
  • 小型連成圧力対応640Sシリーズを開発
  • フォースモータのみのダイレクト制御
  • 超高速応答　50kHz
  

2010年
  • 極低温用サーボバルブ913シリーズを開発
  • -60℃対応
  

2012年
  • CPUによりインテリジェント制御を行なうAシリーズの販売を開始（Xシリーズのアップバージョン）
  • データロギング機能
  • 自動校正機能
  • アラーム機能
  • 制御分解能1/5000以下
  • CCLINK対応
インテリジェントコントローラ内蔵型

2014年
  • 基準圧力発生器用フル5桁圧力設定器を開発
  • 制御分解能1/10000
  • 通信機能(PC併用)
  • プログラム機能(PC併用)
  • ロギング機能(PC併用)
  • センサ校正機能(PC併用)
  • タッチパネル式